重磅消息！美国国家工程院公布2025年新增院士名单，哥伦比亚大学两位教授因其在光子学、人工智能和工程系统领域的卓越贡献荣耀当选👏！

Eugene Higgins电气工程教授兼电气工程系应用物理学教授Michal Lipson和Samuel Ruben-Peter G. Viele工程教授Venkat Venkatasubramanian成功入围，哥伦比亚大学入围美国国家工程院院士的人数也增加至19人。

Michal Lipson教授是硅光子学领域的重要先驱。2004 年，她在硅电光特性的领域中展现出了卓越的研究能力，带动了硅光子学研究与开发的爆炸式增长。如今，与硅光子设备和系统有关的出版物每年超过50,000 篇，其中很大一部分均基于Lipson教授自2001年以来发表的原创论文。在每年公开发表的论文中，千余篇论文均涉及或基于Lipson教授及其小组所研究出的硅光子器件设备与电路。因此，自2014年以来，Lipson教授每年都被汤森路透评为“物理学领域被引用率前1%的研究人员”。

Lipson教授于2015年加入哥伦比亚大学工程系，是超过45项已授权专利的发明人。她曾当选为美国国家科学院院士，并获得美国国家科学院Comstock物理学奖、MacArthur奖学金、Blavatnik奖、光学学会R. W. Wood奖、电气和电子工程师学会（IEEE）光子学奖、Erna Hamburger奖等。此外，她也是首位荣获John Tyndall奖的女性研究员。

Venkatasubramanian教授是国际公认的权威学者，在基于人工智能的工艺故障诊断、工艺安全、制药工程和材料设计方面取得了卓越成就。他的研究在上述每个领域均具有开创性，对理论发展、工业实践及专业领域均产生了深远影响。尤为突出的是，他在化学工程人工智能方面做出的前瞻性贡献，精准预见了如今已被广泛认可的技术发展趋势。

他在国际期刊《计算机与化学工程》上发表的三篇关于工艺故障诊断与安全的论文，累计引用超过8000次，位列该刊被引用次数最多的10篇论文之一，被业界视为该学科领域内的“黄金标准”。2019年，他发表的关于化学工程人工智能的论文成为美国化学工程师学会（AIChE）期刊过去20年中被引用次数最多的研究成果。

凭借对过程系统工程领域所做的卓越贡献，Venkatasubramanian教授被美国化学工程师学会授予“化学工程计算奖”，并成功当选为美国化学工程师学会院士。此外，Venkatasubramanian教授在去年还荣获了AIChE历史最为悠久、最负盛名的奖项之一——William H. Walker奖，再次彰显了他在化学工程人工智能领域的开创性研究成果。

👏 再次祝贺两位哥大教授 👏

期待他们以更多科研成果推动学科发展